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使用合金分析儀測量涂層的兩大好處

更新時(shí)間:2021-10-18   點(diǎn)擊次數(shù):777次
  合金分析儀是一種XRF光譜分析技術(shù),可用于確認(rèn)物質(zhì)里的特定元素, 同時(shí)將其量化。它可以根據(jù)X射線的發(fā)射波長(λ)及能量(E)確定具體元素,而通過測量相應(yīng)射線的密度來確定此元素的量。XRF度普術(shù)就能測定物質(zhì)的元素構(gòu)成。
  每一個(gè)原子都有自己固定數(shù)量的電子(負(fù)電微粒)運(yùn)行在核子周圍的軌道上。而且其電子的數(shù)量等同于核子中的質(zhì)子(正電微粒)數(shù)量。從元素周期表中的原子數(shù)可以得知質(zhì)子的數(shù)目。每一個(gè)原子數(shù)都對(duì)應(yīng)固定的元素名稱。能量色散X螢光與波長色散X螢光光譜分析技術(shù)特別研究與應(yīng)用了*里層三個(gè)電子軌道即K,L,M上的活動(dòng)情況,其中K軌道*為接近核子,每個(gè)電子軌道則對(duì)應(yīng)某元素一個(gè)個(gè)特定的能量層。
  在XRF分析法中,從X光發(fā)射管里放射出來的高能初級(jí)射線光子會(huì)撞擊樣本元素。這些初級(jí)光子含有足夠的能量可以將*里層即K層或L層的電子撞擊脫軌。這時(shí),原子變成了不穩(wěn)定的離子。由于電子本能會(huì)尋求穩(wěn)定,外層L層或M層的電子會(huì)進(jìn)入彌補(bǔ)內(nèi)層的空間。在這些電子從外層進(jìn)入內(nèi)層的過程中,它們會(huì)釋放出能量,稱之為二次X射線光子。而整個(gè)過程則稱為螢光輻射。每種元素的二次射線都各有特征。而X射線光子螢光輻射產(chǎn)生的能量是由電子轉(zhuǎn)換過程中內(nèi)層和外層之間的能量差決定的。特定元素在一定時(shí)間內(nèi)所放射出來的X射線的數(shù)量或者密度,能夠用來衡量這種元素的數(shù)量。典型的XRF能量分布光譜顯示了不同能量時(shí)光子密度的分布情況。
  使用合金分析儀測量涂層的兩大好處:
  1.準(zhǔn)確的厚度測量有助于制造商提供高質(zhì)量的產(chǎn)品和控制成本。涂層厚度嚴(yán)格;涂層太厚會(huì)增加制造成本。客戶還可以測量涂層材料,以確保產(chǎn)品涂有正確的涂層和正確的厚度。
  2.使用快速、高效、無損的手持合金分析儀有助于在生產(chǎn)線和現(xiàn)場提供質(zhì)量控制。手持合金分析儀可以在10秒內(nèi)提供測試結(jié)果,并且可以通過準(zhǔn)直器進(jìn)行改進(jìn)。準(zhǔn)直器測試可在30秒內(nèi)完成。手持XRF光譜儀不會(huì)損壞被測材料。由于手持合金分析儀體積小、攜帶方便、手持方便,因此可以方便地檢測大樣本,否則必須將其切成小塊才能使用臺(tái)式XRF光譜儀進(jìn)行檢測。
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